PTA-NEWS. Edito : Un nouveau mensuel! A l affiche. Edito : A la Une le pôle gravure. La gravure humide. et chlorée... Ce numéro du

Dimension: px
Commencer à balayer dès la page:

Download "PTA-NEWS. Edito : Un nouveau mensuel! A l affiche. Edito : A la Une le pôle gravure. La gravure humide. et chlorée... Ce numéro du"

Transcription

1 PTA-NWS D A N S C N M É : dito : A la ne : Le pôle gravure La gravure humide A l affiche : La gravure plasma La gravure par faisceau d ions Gravure de nanopiliers pour les mémoires magnétiques laboration et intégration de nanostructures auto-organisées : application à la nanoélectronique Informations P. 1 P. 2 P. 3 P. 4 N 2 - M A S / A V I L dito : n nouveau mensuel! dito : A la ne le pôle gravure La croisière " nanofabrication" que nous vous proposons La PTA vous à présente travers ses le PTA-News, meilleurs vœux fait escale pour cette pour ce nouvelle second année numéro! Pourquoi à l'étape un gravure. nouveau Le journal retrait? Parce de matière, lorsqu'il est localisé, présuppose un masque de qu il se passe plein de choses protection. sur la PTA Cela et que est nous réalisé voulons de en la lithographie, faire profiter présen- l en- lors tée semble dans notre des utilisateurs premier numé-! La gravure humide Ce mensuel permettra ainsi de faire un statut des équipements, des projets, des Les avantages de la gravure publications de pouvoir humide sont la facilité de donner la parole aux divers mise en œuvre, la vitesse membres du Groupe Technique pour qu ils puissent d attaque élevée et une bonne sélectivité aux matériaux selon les cas. présenter leur équipement, rappeler des consignes, don- Les applications de ces gravures sont nombreuses : nettoyages des substrats (CA), gravure anisotrope du silicium par le KH, gravure de l aluminium (Al-etch, MF319), du chrome (Cr-tch), de l or par IKI, ou HCl:HN 3. La silice peut-être gravée avec l HF : 10%, 5%, 1% ou B (HF/NH 4 F) 5%. Aussi disponible: H 2 S 4 (96%), HN 3 : 100% fumant. A l affiche Cependant, toute manipulation ro. Les contraintes de gravure faisceau d'ions, chimie fluorée et chlorée... Ce numéro du sont nombreuses (matériau à graver, ner des isotrope informations ou anisotrope, utiles PTA-news est ainsi l'occasion sélective sur des moments par rapport importants au masque à ne ou pas par manquer rapport en à salle un cousées par les utilisateurs avec d'exposer les prouesses réaliche blanche. d'arrêt, rectitude des ces différentes technologies. flancs...) et expliquent la variété Bonne lecture! des Les utilisateurs technologies aussi disponibles pourront s exprimer et largement pour pré- repré- T.Haccart aujourd'hui sentées senter leur sur projet, la PTA offrir : gravure des Direction sèche occasions et de humide, collaborations. plasma et technique Nous espérons que ce journal vous plaira et que vous aurez envie de nous faire doit s effectuer dans le respect re du Les produit. responsables espectez du les partager vos propres expériences! des règles imposées à tous, consignes Groupe affichées. pour votre sécurité et celle des Technique : Bientôt au et au autres utilisateurs. T.Haccart et H.Haas. BCAi: Nous allons améliorer les paillasses chimie. La Petit T.Haccart rappel et sur H.Haas les règles de sécurité de base : porter paillasse de gravure HF va être les Équipements de Protection étendue et une paillasse solvant Individuelle appropriés (ex. HF/ va être ajouté afin augmenter la acide fort, cf. ÉPI sur la photo). surface disponible. Il y aura Quelle que soit votre activité en aussi des paillasses chimie toutes neuves au BCAi. Les forma- envoyant vos articles (à ce zone chimie vous devez, au minimum, porter des lunettes de sécu- sujet, n oubliez pas que quand tions de vous présentation faites des aux publicationlasses ont de lieu remercier sur inscription, la pailrité et les gants nitriles bleus. L'espace de travail doit être PTA n hésitez!). pas à laissé propre et sec! Les paillasses de chimie sont divisées en Les responsables du Groupe me contacter! echerche M.Terrier : B.Salem et deux zones : acide / base où L.Vila solvant. tilisez la paillasse qui convient en fonction de la natu- M.Terrier (photo). esponsable des paillasses chimie Supplément : Les équipements de gravure du LTM P. 5 Contact : cea.fr Photos : Zone chimie du bâtiment (paillasses) et Port des quipements de Protection Individuelle pour la gravure HF.

2 A l affiche :...la gravure plasma G A V P F N D Le silicium en 3 D Le bâti de gravure ICP HM de STS (Surface Technology System) installé au BCAi permet la gravure du silicium, selon le procédé de type Bosch, par alternance d une phase de gravure avec plasma SF6 et d une phase de passivation avec plasma C4F8. micromètres sur un substrat 100 mm de silicium. Les vitesses de gravure (quelques µm/ min) dépendent essentiellement des paramètres des recettes utilisées (puissance du plasma, ration temps gravure/ temps de passivation ) ainsi que du taux d ouverture du masque. Les masques en résine Il autorise des gravures de ont une bonne tenue grâce à quelques micromètres à plu- un refroidissement performant sieurs centaines de à l hélium. Les masques dits S. Litaudon, responsable équipement (photo) G A V F L 40 µm Microdisque Si2 sur pied silicium. 35 µm Microtore Si2 sur pied silicium. Contact : durs (oxyde de silicium, nitrure de silicium et aluminium) peuvent être une alternative à l emploi des résines. Les gravures réalisées touchent des domaines tels que les microsystèmes, l électronique de puissance, la microfluidique S.Litaudon (photo) / D. Constantin Illustrations : Photo MB de gravures profondes réalisées sur le bâti ICP HM de STS. Le bâti de gravure Multiplex ICP de STS de la PTA produit un plasma très dense, utilisant un champ magnétique F dans sa partie ICP, sans avoir recours à une puissance F élevée au niveau de l échantillon. Ceci réduit les dommages que le plasma peut causer à l échantillon et/ou au masque de gravure. Ses caractéristiques techniques sont : puissance de la source F porte substrat de 300W et de la source ICP 1.2kW. Il est équipé d une détection de fin d attaque par interférométrie laser (905 nm). Les gaz disponibles CHF3 SF6 Ar et 2 sont utilisés pour graver Si, Si2, Ta, Ti, Si3N4, NbN et le Diamant. Microcavités à résonances ltra fines: les microtores n procédé de fabrication de microcavités en silice, type microtores, a été mis en place à la PTA et au sein du laboratoire SiNaPS (INAC/SP2M). Ces objets exhibent plusieurs modes de résonances dont la finesse est extrême (en optique cela correspond à un temps de résidence du photon dans la cavité long de l ordre de quelques dizaines de nanosecondes). Les microtores peuvent être utilisés dans différents domaines comme la bio détection, l optomécanique, l optique etc... Pour ma part, je réalise actuellement une étude optique de ces objets et j étudie également le couplage de différents émetteurs de lumière aux modes résonants de ces cavités. Pour réaliser des microtores, par une gravure plasma isotrope il faut avant tout obtenir des (SF6/Ar) dans le bâti ICP fluoré disques de silice sur pied silicium du de bonne qualité pour ensuite ne attention particulière a été les transformer lors d une étape apportée sur la circularité des de fusion de la silice (ne impul- pieds silicium et sur le ratio d isosion d un laser C2 dirigée per- tropie de la gravure de celui-ci pendiculairement au disque per- pour pouvoir réaliser l étape de met d atteindre le point de fu- fusion dans les meilleures condision de la silice. Le pied Si agit tions. comme un dissipateur thermique A l heure actuelle, des facce qui limite spatialement la zone teurs de qualité intrinsèques de haute température au bord géants (caractérisant la grandu disque. La matière se de finesse des résonances) de contracte pour former un bour- l ordre de ont pu être relet dont la rugosité est quasi mesurés via un banc de caractérinulle). Les étapes mises au point sation de haute réà la PTA sont la lithographie, la solution dans mon gravure humide de la silice puis laboratoire. la gravure plasma du pied sili- J.B. Jager (photo) cium pour obtenir les disques esponsable équipesur piédestal. Les disques de silice sont gravés dans une solu- ment STS. tion tamponnée d HF/NH4F, et le pied silicium est obtenu Contact :

3 ...la gravure par faisceau d ions La gravure par faisceau d ions (Ion Beam tch) est une technique gravure purement physique. Les ions sont accélérés et viennent abraser la surface de l échantillon sous leur bombardement. Le gros avantage, mais aussi l inconvénient, de cette gravure, est de pouvoir graver tous les matériaux et ceci avec des sélectivités proche de l unité. Les vitesse de gravure peuvent aller de quelques Å/s à 400 Å/min sur notre équipement. Ces vitesses sont directement liées à la nature du matériau, la puissance F, la pression de travail, mais aussi l angle d attaque du faisceau par rapport à l échantillon. Le but du travail du groupe mémoires MAM et logique de Spintec à la PTA est le développement de dispositifs test de mémoires magnétiques à base de jonctions tunnels qui consiste à graver l empilement magnétique en configuration nano-pilier. Le motif de gravure est défini par lithographie électronique (taille de 50 à 500 nm). Le pilier est gravé par I (eactive Ion tching) suivie d une gravure par faisceau d ions IB (Ion Beam tching). Les deux étapes sont cruciales, en particulier la seconde, car elle définit la géométrie du pilier avec un bon facteur de forme et en évitant au maximum les redépôts, qui pourraient court-circuiter l empilement magnétique. Pour la gravure du masque dur de Ta (~150nm) en I, on utilise du SF 6 : Ar (débits 5 :10 sccm) avec une puissance Coil:Bias de 300W:20W, la pression étant de 3mTorr. Cette recette a permis d obtenir des profils avec des flancs de gravures droits, à condition d avoir un bon contact thermique pour maintenir l échantillon à T constante. Dans les tests de qualifications effectués sur oxyde thermique (figure ci-contre), on voit très bien que la pression de travail en liaison avec le débit d Argon dans l enceinte influence directement la vitesse de gravure mais surtout l homogénéité mesurée, ici sur 4, se dégrade très vite. Notre système est monté avec un spectromètre de masse des ions secondaires (SIMS) in-situ. Cet équipement permet de suivre les espèces gravés en temps réel. Ainsi on peut suivre l apparition ou la disparition de couches de quelques nanomètres et pouvoir par-là même arrêter sa gravure au bon moment! P.Sabon (photo) Gravure de nano-piliers pour les mémoires L image (a) montre un pilier où le Ta a été surgravé suite à une augmentation de la température de l échantillon. Les images MB a),b) et c) montrent des nano-piliers de Ø=500nm où l échantillon est collé avec du scotch (a) et collé avec une colle qui permet un bon contact thermique, en l occurrence Crystalbond TM (b) et (c). La suite de gravure de l empilement magnétique est faite par IB. Pendant cette étape, les phénomènes de gravure et de redépôt coexistent. Afin d éviter l élargissement du motif, il faut que la vitesse de gravure soit plus grande que celle du redépôt. n modifiant l angle de gravure, il est possible de réduire ou carrément d éliminer ces redépôts. Dans notre étude (non exhaustive), nous avons obtenu des flancs de gravure plus droits avec une gravure à un angle de 45 fig. c) que ceux obtenus avec des gravures à 35 fig.b). Yasmina Hadj-Larbi/ Dahmane (photo) Marie-T. Delaye tch ate (A/min) P A G 3 550W, 10rpm, -35 tch, on Si2 Therm tch ate(a/min) niformity (%) ,8 1,0 1,2 1,4 1,6 1,8 2,0 2,2 2,4 Pressure (10-4 Torr) Figure: Tests de qualifications effectués sur oxyde thermique a) b c) «Il y a un optimum vitesse de gravure / homogénité» Contact: Légende des illustrations : Images MB de nanopiliers gravés en I + IB a ) échantillon collé avec du scotch, I+IB à 35, b) et (c) échantillons collés avec Crystalbond TM, I+IB à 35 (b) et à 45 (c). Angles / à l axe du pilier. Contact : niformity (%)

4 laboration et intégration de nanostructures auto-organisées : application à la nanoélectronique Dans le cadre de mon sujet de post-doctorat au LTM, nous avons étudié les propriétés d auto-assemblage des copolymères diblocs pour contrôler la taille et le positionnement de nanoparticules métalliques. n copolymère est une chaîne de polymère constituée de deux brins chimiquement différents. ne fois étalée et recuite, cette fine couche se structure en réseau bidimensionnel (hexagonal, lamellaire...). lle va par la suite être utilisée comme masque de gravure ou de dépôt afin d obtenir des nanostructures. Les motifs dépendent du copolymère utilisé et de sa masse moléculaire. La taille caractéristique est de l ordre de 20 nm. Dans un premier temps, nous avons mis au point un procédé permettant la réalisation du masque copolymère. Par la suite, le masque copolymère obtenu sera utilisé pour transférer des particules métalliques sur une surface de Si 2 ou Silicium et également comme un masque à la gravure. Les puits ainsi générés pourront être exploités dans Légende des illustrations : Fig 1 : Film copolymère. Fig 2 : Particules métalliques Pt auto-organisées P A G 4 le but de réaliser par exemple des boîtes quantiques, tandis que les copolymère qui s ordonnent sous forme de lignes vont permettre la fabrication de nanofils dans une approche top-down. Les particules métalliques, qui sont déposées à travers le masque copolymère serviront de catalyseurs à la croissance localisée des nanofils verticaux de silicium, qui constituera la troisième étape de ce projet. Les différentes étapes technologiques (dépôts métalliques et gravures) ont été effectuées à la PTA et également dans la salle blanche du bâtiment 41 (voir à ce sujet le message de l quipe de Direction ci-dessous). Billel Salhi (photo) 230 nm 100 nm Contact : INFMATINS Les publications transmises récemment "MMS esonator frequency compensation by «in-line» trimming" Y.Civet, F.Casset, J.F.Carpentier, S.Decossas, T.Haccart, S.Basrour. Papier soumis à Memswave à Christophe Lemonias, nouveau membre du Groupe Technique! Christophe nous a rejoint à mi-temps début février sur la PTA, le reste de son temps étant consacré à des projets avec Spintec. Venant de Nanofab (Institut Néel), il a une grande expérience de la salle blanche. Actuellement, il est suppléant sur les équipements de lithographie et de microscopie. N hésitez pas à nous contacter et à proposer vos articles. Le prochain numéro portera sur les dépôts et la lithographie optique. Contacts : Site WB : MSSAG D L QIP D DICTIN (D) D LA PTA : L'arrivée de la machine de gravure ICP chlorée est une excellente nouvelle pour la PTA. La construction du local technique, qui accueillera les gaz réactifs, interviendra d ici l été. Nous espérons qu'elle pourra répondre rapidement aux besoins des utilisateurs et contribuer au développement de nouveaux projets. Par ailleurs, il faut noter que le LTM dispose d'équipements de gravure localisés sur la plateforme mm du LTI. L'un de ces équipements n'est pas dédié exclusivement à la microélectronique et est utilisé ponctuellement pour d'autres projets (ex : gravure tranchées de silicium 50 nm et anisotrope, gravure de métaux), dans la mesure où les substrats et matériaux sont compatibles avec leur utilisation sur un tel équipement, et en tenant compte de sa localisation dans la salle blanche du LTI. Les utilisateurs de la PTA, qui auraient un besoin spécifique, sont invités à prendre contact avec ou (pour plus d informations, voir le supplément de la page 5). Direction: livier Joubert, ngin Molva, Cécile Gourgon et Yves Samson. Coordination éditoriale: Helge Haas (I. Néel), édaction et secrétariat de rédaction: Marie Panabière (LTM). nt collaboré à ce numéro: Thibault Haccart (INAC), Marlène Terrier (INAC), Stéphane Litaudon (INPG), Jean-Baptiste Jager (INAC), Philippe Sabon (Spintec), Yasmina Dahmane (Spintec), Billel Salhi (LTM), Gilles Cunge (LTM).

5 SPPLMNT A PTA-NWS N 2 P AG LS QIPMNTS D GAV D LTM L équipe gravure du LTM mène une activité amont sur les procédés de gravure par plasma impliqués dans les filières microélectroniques, spintronique et nanotechnologiques. Il s agit d une part de développer les procédés de gravure des nouveaux matériaux qui sont introduits à un rythme grandissant dans ces différentes filières. D autre part, il faut adresser le problème du contrôle dimensionnel lors de la gravure de nanostructures ainsi que le problème des dommages générés par le plasma dans les couches ultraminces qui composent les empilements complexes devant être gravés dans ces filières. Pour effectuer ce travail, le LTM s appuie sur deux clusters de gravure industriels de la société Applied Materials (AMAT). Ces clusters sont destinés à la gravure de substrats de 200 et 300 mm de diamètres, et ils ont été modifiés afin d accueillir des diagnostics du plasma et des surfaces gravées. n particulier, chacun de ces deux clusters est connecté via un transfert sous vide à un analyseur XPS qui permet d analya) 8 nm 8 nm ser la composition chimique des surfaces gravées (et notamment du flanc des structures gravées). n outre, les réacteurs de gravure qui constituent ces clusters sont équipés d éllipsométrie insitu ce qui permet d une part un contrôle en temps réel très fin des procédés, et d autre part des analyses «post-gravure de l épaisseur des couches minces. nfin, ces réacteurs sont équipés de diagnostics du plasma (émission optique, absorption large bande, absorption laser, spectrométrie de masse) qui sont utilisés pour avoir une meilleure compréhension des mécanismes mis en jeux dans la gravure, ce qui permet en retour de mieux contrôler les procédés. D un point de vue pratique, le cluster 200 mm comporte trois réacteurs: une source haute densité de type plasma inductif (DPS) destinée à la gravure du silicium, des métaux et des matériaux magnétiques ; une source identique (DPS+) mais équipée d une cathode chauffante indispensable à la gravure de certains matériaux qui ne forment pas de produits de gravure volatils à tempé- c) Gilles Cunge (photo) b) Illustrations : a) Grille Si sur Si2 ultramince (0.8 nm), b) Gravure de Grille métallique, c) Plate-forme Applied Materials nm nm nm rature ambiante (high-k, matériaux magnétiques ), et une source de type MI (MAX) qui est notamment utilisée pour graver le Si2. Le cluster 300 mm est une réplique du 200 mm mais n est pour l instant équipé que de 2 réacteurs ICP. Cependant, ces réacteurs sont équipés de générateur F dont la puissance peut être modulée en impulsions courtes. Nous pensons que les plasmas pulsés devraient permettre de régler un certain nombre de problèmes de la gravure par plasma : citons l élimination des effets de charge surfacique (qui endommagent les matériaux diélectriques et font perdre le contrôle des profils de gravure) ainsi que la possibilité de graver à très faible énergie de bombardement ionique et donc de s attaquer à la gravure de couches ultraminces sans les endommager. Si Hf2 TiN XPS Gravure Poly-Si Gravure métal & high-k Gravure low-k Contact : 5

La gravure. *lagravureparvoiehumide *lagravuresèche

La gravure. *lagravureparvoiehumide *lagravuresèche La gravure Après avoir réalisé l étape de masquage par lithographie, il est alors possible d effectuer l étape de gravure. L étape de gravure consiste à éliminer toutes les zones non protégées par la résine

Plus en détail

Recuit sous hydrogène des couches du silicium poreux

Recuit sous hydrogène des couches du silicium poreux Revue des Energies Renouvelables ICRESD-07 Tlemcen (2007) 47 52 Recuit sous hydrogène des couches du silicium poreux F. Otmani *, Z. Fekih, N. Ghellai, K. Rahmoun et N.E. Chabane-Sari Unité de Recherche

Plus en détail

Mémoire de Thèse de Matthieu Lagouge

Mémoire de Thèse de Matthieu Lagouge Conception de microsystèmes à base d actionneurs en SU8 pour la manipulation de micro-objets en milieu liquide et transfert vers un milieu quasi-sec * * * Annexes Mémoire de Thèse de Matthieu Lagouge soutenue

Plus en détail

L PRESENTATION GENERALE SCPIO

L PRESENTATION GENERALE SCPIO L PRESENTATION GENERALE SCPIO Nom : DEPARTEMENT PLATEFORME TECHNOLOGIQUE Sigle: CEA / DRT / LETI / DPTS SILICUIM Etablissement : CEA Grenoble Adresse : 7 rue des Martyrs Site Web : 804 GRENOBLE Cedex 9

Plus en détail

INSTRUMENTS DE MESURE

INSTRUMENTS DE MESURE INSTRUMENTS DE MESURE Diagnostique d impulsions lasers brèves Auto corrélateur à balayage modèle AA-10DD Compact et facile d emploi et de réglage, l auto corrélateur AA-10DD permet de mesurer des durées

Plus en détail

Procédés plasmas à faisceau d ions. P.Y. Tessier

Procédés plasmas à faisceau d ions. P.Y. Tessier Procédés plasmas à faisceau d ions P.Y. Tessier Institut des Matériaux Jean Rouxel, CNRS Groupe des plasmas et des couches minces Université de Nantes Plan Introduction Gravure par faisceau d ions Dépôt

Plus en détail

APPLICATIONS DE L'IMPLANTATION IONIQUE POUR LE BIOMEDICAL

APPLICATIONS DE L'IMPLANTATION IONIQUE POUR LE BIOMEDICAL Ion Beam Services ZI Peynier / Rousset Rue G. Imbert Prolongée 13790 Peynier, France Tel. : +33 4 42 53 89 53 Fax : + 33 4 42 53 89 59 Email : frank.torregrosa@ion-beam-services.fr APPLICATIONS DE L'IMPLANTATION

Plus en détail

Mario Geiger octobre 08 ÉVAPORATION SOUS VIDE

Mario Geiger octobre 08 ÉVAPORATION SOUS VIDE ÉVAPORATION SOUS VIDE 1 I SOMMAIRE I Sommaire... 2 II Évaporation sous vide... 3 III Description de l installation... 5 IV Travail pratique... 6 But du travail... 6 Principe... 6 Matériel... 6 Méthodes...

Plus en détail

BICNanoCat. Bombardement Ionique pour la Création de Nano Catalyseurs. Denis Busardo Directeur Scientifique, Quertech

BICNanoCat. Bombardement Ionique pour la Création de Nano Catalyseurs. Denis Busardo Directeur Scientifique, Quertech BICNanoCat Bombardement Ionique pour la Création de Nano Catalyseurs Denis Busardo Directeur Scientifique, Quertech ANR BICNanoCat DAS Concerné : Énergie Environnement Appel à projets : réduction des émissions

Plus en détail

Association Aristote Groupe PIN Projets de technologies innovantes pour les supports de stockage 22 mars 2012

Association Aristote Groupe PIN Projets de technologies innovantes pour les supports de stockage 22 mars 2012 ARNANO Le hiéroglyphe du 3 ème millénaire. Association Aristote Groupe PIN Projets de technologies innovantes pour les supports de stockage 22 mars 2012 Conservation sécurisée à très long terme de documents

Plus en détail

TP vélocimétrie. Laser, Matériaux, Milieux Biologiques. Sécurité laser

TP vélocimétrie. Laser, Matériaux, Milieux Biologiques. Sécurité laser TP vélocimétrie Laser, Matériaux, Milieux Biologiques Sécurité ATTENTION : le faisceau du Hélium-Néon utilisé dans cette salle est puissant (supérieur à 15 mw). Il est dangereux et peuvent provoquer des

Plus en détail

Un extraordinaire instrument d analyse des surfaces

Un extraordinaire instrument d analyse des surfaces Communiqué de presse Dübendorf,St. Gall, Thun, le 22 août 2013 Deux-en-un : le NanoChemiscope 3D Un extraordinaire instrument d analyse des surfaces Le NanoChemiscope 3D est une merveille issue des plus

Plus en détail

Colle époxydique multi usages, à 2 composants

Colle époxydique multi usages, à 2 composants Notice Produit Edition 20 01 2014 Numéro 9.11 Version n 2013-310 01 04 02 03 001 0 000144 Colle époxydique multi usages, à 2 composants Description est une colle structurale thixotrope à 2 composants,

Plus en détail

P ô l e C N F M d e T O U L O U S E

P ô l e C N F M d e T O U L O U S E INSTITUT NATIONAL POLYTECHNIQUE DE TOULOUSE INSTITUT NATIONAL DES SCIENCES APPLIQUEES DE TOULOUSE LABORATOIRE D'ANALYSE ET D'ARCHITECTURE DES SYSTEMES UNIVERSITE PAUL SABATIER A T E L I E R I N T E R U

Plus en détail

Etude des nanofils en trois dimensions et à l échelle atomique par sonde atomique tomographique.

Etude des nanofils en trois dimensions et à l échelle atomique par sonde atomique tomographique. Etude des nanofils en trois dimensions et à l échelle atomique par sonde atomique tomographique. Mike El Kousseifi K. Hoummada, F. Panciera, D. Mangelinck IM2NP, Aix Marseille Université-CNRS, Faculté

Plus en détail

Polissage des Miroirs d Advanced Virgo : un nouveau défi. Les solutions envisagées

Polissage des Miroirs d Advanced Virgo : un nouveau défi. Les solutions envisagées Polissage des Miroirs d Advanced Virgo : un nouveau défi Les solutions envisagées Laurent PINARD Responsable Technique Laboratoire des Matériaux Avancés - Lyon 1 Plan de l exposé Introduction Virgo, les

Plus en détail

Elaboration de matériaux micro et nanostructurés

Elaboration de matériaux micro et nanostructurés Elaboration de matériaux micro et nanostructurés Thierry FOURNIER CNRS/Institut Néel thierry.fournier@grenoble.cnrs.fr Tel:0476889071 SMB2009 Sciences de la Miniaturisation et Biologie 1 FEYNMAN 29/12/1959

Plus en détail

L actu de la Centrale de

L actu de la Centrale de L actu de la Centrale de Technologie Universitaire IEF-MINERVE Centrale de Technologie Universitaire Volume 1, numéro 1 Printemps 2007 Microsystèmes Imageries Nanosciences Enseignement Recherche Valorisation

Plus en détail

Technologie de fabrication des pointes AFM et leur utilisation en mode électrique Gilbert GILLMANN NanoAndMore France

Technologie de fabrication des pointes AFM et leur utilisation en mode électrique Gilbert GILLMANN NanoAndMore France Technologie de fabrication des pointes AFM et leur utilisation en mode électrique Gilbert GILLMANN NanoAndMore France Initiation à la Microscopie à force atomique - Spécialisation électrique 12 Mars 2008

Plus en détail

Haute Ecole de la Ville de Liège. Institut Supérieur d Enseignement Technologique.

Haute Ecole de la Ville de Liège. Institut Supérieur d Enseignement Technologique. Haute Ecole de la Ville de Liège. Institut Supérieur d Enseignement Technologique. Laboratoire Electronique Méthodologie. Jamart Jean-François. - 1 - La fabrication d un circuit imprimé. SOMMAIRE Introduction

Plus en détail

On peut être «lourd» et agile!

On peut être «lourd» et agile! éditorial Traitements & Matériaux 412 Octobre - Novembre 2011 3 On peut être «lourd» et agile! La métallurgie est considérée comme une industrie «lourde», les traitements thermiques comme de «vieux» procédés,

Plus en détail

De la carte perforée à L atome...

De la carte perforée à L atome... bertrand kierren - LPM PSV LPS Orsay - 2006 http://www.lpm.u-nancy.fr/activite_surface/ De la carte perforée à L atome... CONQUETE À l échelle du nano Le nano monde 1 nm 1 μm 1 mm 1 m Les nano technologies

Plus en détail

Laboratoire de Photophysique et de Photochimie Supra- et Macromoléculaires (UMR 8531)

Laboratoire de Photophysique et de Photochimie Supra- et Macromoléculaires (UMR 8531) Unité Mixte du CNRS (UMR8531) Institut de Chimie Directeur : Keitaro NAKATANI (PU ENS Cachan) Courrier électronique : nakatani@ppsm.ens-cachan.fr http://www.ppsm.ens-cachan.fr Problématique générale :

Plus en détail

Microscopie à force atomique

Microscopie à force atomique Microscopie à force atomique DETREZ Fabrice Table des matières 1 Principe 2 2 Analyse structurale 3 3 Interactions pointes surfaces 4 4 Boucle d asservissement et contrastes 6 5 Traitement des Images 8

Plus en détail

Résonance Magnétique Nucléaire : RMN

Résonance Magnétique Nucléaire : RMN 21 Résonance Magnétique Nucléaire : RMN Salle de TP de Génie Analytique Ce document résume les principaux aspects de la RMN nécessaires à la réalisation des TP de Génie Analytique de 2ème année d IUT de

Plus en détail

PLASMA / SOLAIRE / NANO. Françoise MASSINES PROMES - CNRS LIA STEP

PLASMA / SOLAIRE / NANO. Françoise MASSINES PROMES - CNRS LIA STEP PLASMA / SOLAIRE / NANO Françoise MASSINES PROMES - CNRS LIA STEP Notre laboratoire : PROMES Procédés Matériaux Energie Solaire Unité propre du CNRS, laboratoire de l INSIS (Institut des Sciences de l

Plus en détail

Parylène C. Parylène D. www.comelec.ch

Parylène C. Parylène D. www.comelec.ch Parylène C Parylène D www.comelec.ch Présentation du parylène, des parylènes. Voie d obtention et conséquences. Principales propriétés Matériel de prédilection pour le médical et la pharmacologie. Exemples

Plus en détail

MESURES DE DILATOMETRIE SUR DEUX NUANCES D ACIER INOX : 1.4542 ET 1.4057 le 04/01/00

MESURES DE DILATOMETRIE SUR DEUX NUANCES D ACIER INOX : 1.4542 ET 1.4057 le 04/01/00 1 EIDGENÖSSISCHE TECHNISCHE HOCHSCHULE LAUSANNE POLITECNICO FEDERALE DI LOSANNA SWISS FEDERAL INSTITUTE OF TECHNOLOGY LAUSANNE DEPARTEMENT DE MICROTECHNIQUE INSTITUT DE PRODUCTION MICROTECHNIQUE CH - 1015

Plus en détail

Principe de fonctionnement des batteries au lithium

Principe de fonctionnement des batteries au lithium Principe de fonctionnement des batteries au lithium Université de Pau et des pays de l Adour Institut des Sciences Analytiques et de Physicochimie pour l Environnement et les Matériaux 22 juin 2011 1 /

Plus en détail

Le polissage par laser

Le polissage par laser B U L L E T I N T E C H N I Q U E N 4 1 B U L L E T I N T E C H N I Q U E N 4 1 Le polissage par laser Contexte Un traitement de surface est généralement réalisé dans le but d améliorer les caractéristiques

Plus en détail

A PROPOS DE NANOWORLD

A PROPOS DE NANOWORLD A PROPOS DE NANOWORLD La Nanotechnologie est notre spécialité. La précision, notre tradition. L innovation est notre raison de vivre. C est pourquoi nous nous sentons particulièrement bien en Suisse, une

Plus en détail

SIMULATION DU PROCÉDÉ DE FABRICATION DIRECTE DE PIÈCES THERMOPLASTIQUES PAR FUSION LASER DE POUDRE

SIMULATION DU PROCÉDÉ DE FABRICATION DIRECTE DE PIÈCES THERMOPLASTIQUES PAR FUSION LASER DE POUDRE SIMULATION DU PROCÉDÉ DE FABRICATION DIRECTE DE PIÈCES THERMOPLASTIQUES PAR FUSION LASER DE POUDRE Denis DEFAUCHY Gilles REGNIER Patrice PEYRE Amine AMMAR Pièces FALCON - Dassault Aviation 1 Présentation

Plus en détail

Adhésif structural pour le collage de renforts

Adhésif structural pour le collage de renforts Notice Produit Edition 18/07/2014 Numéro 3022 Version N 2014-253 N identification : 020206040010000001 Adhésif structural pour le collage de renforts Description est une colle structurale thixotrope à

Plus en détail

Terminale S Chapitre 1 Observer : ondes et matière. Le disque dur

Terminale S Chapitre 1 Observer : ondes et matière. Le disque dur Le disque dur L un des organes centraux de l ordinateur est son disque dur, dont le rôle est de stocker les données et de les conserver une fois l alimentation coupée (on parle de mémoire morte, volatile

Plus en détail

LANDANGER ET LA TECHNOLOGIE LASER

LANDANGER ET LA TECHNOLOGIE LASER (Validé le 17/03/2006) Avant propos LANDANGER Toutes les informations que vous allez découvrir étaient à vocations internes et confidentielles, mais devant la forte demande de nos clients et l importance

Plus en détail

1) Explications (Expert) :

1) Explications (Expert) : 1) Explications (Expert) : Mesures expérimentales : Dans nos conditions d expérience, nous avons obtenu les résultats suivants : Les dimensions des récipients sont : 1) bocal vide : épaisseur de verre

Plus en détail

LES RÉPLIQUES MÉTALLOGRAPHIQUES

LES RÉPLIQUES MÉTALLOGRAPHIQUES CONGRÈS MATÉRIAUX 2014 Colloque 6 «Corrosion, vieillissement, durabilité, endommagement» LES RÉPLIQUES MÉTALLOGRAPHIQUES Une méthode non destructive pour contrôler le vieillissement et l endommagement

Plus en détail

LAboRAToiRE expertises Chimiques & physico- Chimiques Le Laboratoire Expertises Chimiques & Physicochimiques (LECP) caractérise les matériaux, principalement inorganiques, afin de déterminer leur composition

Plus en détail

Le stockage de données pérenne dans les verres : Etat de l avancement du projet à Bordeaux.

Le stockage de données pérenne dans les verres : Etat de l avancement du projet à Bordeaux. Le stockage de données pérenne dans les verres : Etat de l avancement du projet à Bordeaux. A. Royon 1,2, Y. Deshayes 2, Y. Petit 1,3, T. Cardinal 3, et L. Canioni 1 1 LOMA-CNRS / Université de Bordeaux,

Plus en détail

Soudal Panel System SPS. La force extrême derrière vos panneaux de façade. www.soudal.com SOUDAL PANEL SYSTEM. Soudal Panel System 1 SPS SOUDAL PANEL

Soudal Panel System SPS. La force extrême derrière vos panneaux de façade. www.soudal.com SOUDAL PANEL SYSTEM. Soudal Panel System 1 SPS SOUDAL PANEL www.soudal.com Soudal Panel System La force extrême derrière vos panneaux de façade WINDOW Soudal Panel System 1 Soudal Panel System () Qu est-ce que le? Les panneaux de façade existent dans tous les modèles

Plus en détail

Tous les produits de la gamme SAF offrent des résistances :

Tous les produits de la gamme SAF offrent des résistances : Fiche Technique Strengths Are Flex La gamme SAF est basée sur une technologie et des polymères méthacrylates brevetés. Ces adhésifs de nouvelle génération permettent d adhérer sur de nombreux supports

Plus en détail

Les nanotubes de carbone : 1. Structure et croissance

Les nanotubes de carbone : 1. Structure et croissance Les nanotubes de carbone : 1. Structure et croissance Les différentes formes de carbone sp 2 Structure des nanotubes mono-feuillets Structure électronique des nanotubes mono-feuillets Modèle de croissance

Plus en détail

La plate-forme Caractérisation CIM PACA

La plate-forme Caractérisation CIM PACA La plate-forme Caractérisation CIM PACA Un partenaire de choix pour la caractérisation chimique de vos matériaux Partenaires: Qui sommes-nous? La plate-forme Caractérisation CIM PACA est une association

Plus en détail

De la micro à la nano-électronique

De la micro à la nano-électronique De la micro à la nano-électronique Christian Ngô ECRIN LT M ngo@ecrin.asso.fr LE PUCE MICR-ELECTRNIQUE AU QUTIDIEN Cafetière électrique 1 puce 10 000 T Pèse personne 1 puce 10 000 T Télévision 10 puces

Plus en détail

Sensibilisation à la Sécurité LASER. Aspet, le 26/06/2013

Sensibilisation à la Sécurité LASER. Aspet, le 26/06/2013 Sensibilisation à la Sécurité LASER Aspet, le 26/06/2013 Modes d émission LASER P c P 0 P moy 0 Emission pulsée Salve ou train de N impulsions Emission continue Q i t i t Longueur d onde λ Emission continue

Plus en détail

1. La sauvegarde des données

1. La sauvegarde des données 1. La sauvegarde des données La sauvegarde des données Plan de la présentation: 1. Pourquoi sauvegarder? 2. Les supports de sauvegarde 3. Comment sauvegarder. 1. Pourquoi sauvegarder? Qu est-ce qu une

Plus en détail

Contribution des faisceaux d ions à l élaboration de dispositifs pour l électronique souple

Contribution des faisceaux d ions à l élaboration de dispositifs pour l électronique souple Comité National Français de Radioélectricité Scientifique Section française de l Union Radio Scientifique Internationale Siège social : Académie des Sciences, Quai de Conti Paris Journées scientifiques

Plus en détail

Microscopies en champ proche ou à sonde locale Gilles Parent

Microscopies en champ proche ou à sonde locale Gilles Parent Microscopies en champ proche ou à sonde locale Gilles Parent Nancy, 26 avril 2012 Introduction, historique STM (Scanning tunneling Microscope, microscope à effet tunnel électronique) : Binnig et Rohrer

Plus en détail

ESTIMATION DE LA HAUTEUR D UN LIT DE STOCKAGE DE L ENERGIE THERMIQUE UTILISANT UN MATERIAU A CHANGEMENT DE PHASE

ESTIMATION DE LA HAUTEUR D UN LIT DE STOCKAGE DE L ENERGIE THERMIQUE UTILISANT UN MATERIAU A CHANGEMENT DE PHASE 0-06 Novembre, 00, Sousse,Tunisie ESTIMATION DE LA HAUTEUR D UN LIT DE STOCKAGE DE L ENERGIE THERMIQUE UTILISANT UN MATERIAU A CHANGEMENT DE PHASE A. Benmansour A. Benzerdjeb Laboratoire de mécanique appliquée,

Plus en détail

ÉPREUVE COMMUNE DE TIPE 2010 - PARTIE D

ÉPREUVE COMMUNE DE TIPE 2010 - PARTIE D ÉPREUVE COMMUNE DE TIPE 2010 - PARTIE D TITRE : ETUDE DE L'ETAT DE SURFACE DES TEXTILES Temps de préparation :...2 h 15 minutes Temps de présentation devant le jury :.10 minutes Entretien avec le jury

Plus en détail

Parrainage par Monsieur Philippe PAREIGE de notre classe, presentation des nanotechnologies.

Parrainage par Monsieur Philippe PAREIGE de notre classe, presentation des nanotechnologies. LUDIVINE TASSERY 1ere S 5 Parrainage par Monsieur Philippe PAREIGE de notre classe, presentation des nanotechnologies. Lors de la seconde visite, Monsieur PAREIGE, nous a parlé des nanotechnologies et

Plus en détail

www.gbo.com/bioscience 1 Culture Cellulaire Microplaques 2 HTS- 3 Immunologie/ HLA 4 Microbiologie/ Bactériologie Containers 5 Tubes/ 6 Pipetage

www.gbo.com/bioscience 1 Culture Cellulaire Microplaques 2 HTS- 3 Immunologie/ HLA 4 Microbiologie/ Bactériologie Containers 5 Tubes/ 6 Pipetage 2 HTS 3 Immunologie / Immunologie Informations Techniques 3 I 2 ELISA 96 Puits 3 I 4 ELISA 96 Puits en Barrettes 3 I 6 en Barrettes de 8 Puits 3 I 7 en Barrettes de 12 Puits 3 I 8 en Barrettes de 16 Puits

Plus en détail

Circuits intégrés micro-ondes

Circuits intégrés micro-ondes Chapitre 7 Circuits intégrés micro-ondes Ce chapitre sert d introduction aux circuits intégrés micro-ondes. On y présentera les éléments de base (résistance, capacitance, inductance), ainsi que les transistors

Plus en détail

Voir dans le nanomonde

Voir dans le nanomonde Voir dans le nanomonde Spectroscopie La lumière visible permettra-t-elle de «voir» les atomes? Fréquence micro onde Infrarouge Visible et UV Rayon X réaction des molécules rotation vibration des liaisons

Plus en détail

Où sont-elles? Presque partout

Où sont-elles? Presque partout Les puces Vision historique Fabrication Les circuits numériques Les microprocesseurs Les cartes à puces Les puces d identification Controverses Questions Les puces Où sont-elles? Presque partout Où ne

Plus en détail

TS 32 Stockage de données sur un CD

TS 32 Stockage de données sur un CD FICHE 1 Fiche à destination des enseignants TS 32 Stockage de données sur un CD Type d'activité Activité documentaire Tâche complexe Notions et contenus Stockage optique Écriture et lecture des données

Plus en détail

Silicalloy Concept. Comment une solution chrome-free élaborée en laboratoire conduit à renforcer l activité économique en région wallonne. S.

Silicalloy Concept. Comment une solution chrome-free élaborée en laboratoire conduit à renforcer l activité économique en région wallonne. S. Silicalloy Concept Comment une solution chrome-free élaborée en laboratoire conduit à renforcer l activité économique en région wallonne S. Le Craz Avec le soutien financier de la Région wallonne 1 Projet

Plus en détail

contributions Les multiples de la chimie dans la conception des tablettes et des Smartphones Jean-Charles Flores

contributions Les multiples de la chimie dans la conception des tablettes et des Smartphones Jean-Charles Flores Les multiples contributions de la chimie dans la conception des tablettes et des Smartphones Jean-Charles Flores Jean-Charles Flores est spécialiste de l électronique organique au sein de la société BASF

Plus en détail

Toitures plates. Rhinox. Fiche technique DESCRIPTION DU PRODUIT APPLICATION

Toitures plates. Rhinox. Fiche technique DESCRIPTION DU PRODUIT APPLICATION DESCRIPTION DU PRODUIT APPLICATION Panneau isolant en laine de roche particulièrement praticable pour toiture plate, intégrant une couche supérieure extra dure, une couche intermédiaire rigide et une sous

Plus en détail

Contrôle Non Destructif C.N.D.

Contrôle Non Destructif C.N.D. Contrôle Non Destructif C.N.D. 16 Principales techniques Particules magnétiques Pénétrants 7% Autres 7% 6% Ultrasons 30% Objets divers Pétrochimique 15% 10% Aérospatial 25% Courants de Foucault 10% Autres

Plus en détail

Chapitre 02. La lumière des étoiles. Exercices :

Chapitre 02. La lumière des étoiles. Exercices : Chapitre 02 La lumière des étoiles. I- Lumière monochromatique et lumière polychromatique. )- Expérience de Newton (642 727). 2)- Expérience avec la lumière émise par un Laser. 3)- Radiation et longueur

Plus en détail

Ecole d été des spectroscopies d électrons.

Ecole d été des spectroscopies d électrons. Lundi 08 juin 2015 16h00 16h30 Principe et fondements de la technique - Les interactions photon-matière, l émission des photoélectrons - l analyse chimique par XPS Jean-Charles DUPIN Appareillage et instrumentation

Plus en détail

HPT High Power Technology

HPT High Power Technology HPT High Power Technology High Power Technology MM-0008 pour une efficacité optimale Quand la puissance rime avec finesse Jamais les défis dans un monde en évolution permanente comme la microélectronique

Plus en détail

Figure 1 : Diagramme énergétique de la photo émission. E B = hν - E C

Figure 1 : Diagramme énergétique de la photo émission. E B = hν - E C ANALYSE XPS (ESCA) I - Principe La spectroscopie XPS (X-Ray Photoelectron Spectroscopy) ou ESCA (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis) est basée sur la photo émission. Lors de l'irradiation par

Plus en détail

RELEVE D ETAT DU PONT DES GRANDS-CRÊTS. On a procédé une auscultation visuelle entre le 23 et le 29 mars 2007.

RELEVE D ETAT DU PONT DES GRANDS-CRÊTS. On a procédé une auscultation visuelle entre le 23 et le 29 mars 2007. RELEVE D ETAT DU PONT DES GRANDS-CRÊTS On a procédé une auscultation visuelle entre le 23 et le 29 mars 2007. Pour mieux comprendre les résultats ici une petit plan où il y a signalées les différentes

Plus en détail

Le monde nano et ses perspectives très prometteuses.

Le monde nano et ses perspectives très prometteuses. Le monde nano et ses perspectives très prometteuses. I/ Présentation du monde nano. Vidéo «Science Suisse : Christian Schönenberger, nano-physicien», 12 min. «Christian Schönenberger conduit le Swiss Nanoscience

Plus en détail

Le scanning dans OPERA Développements au laboratoire de LYON (IPNL)

Le scanning dans OPERA Développements au laboratoire de LYON (IPNL) Le scanning dans OPERA Développements au laboratoire de LYON (IPNL) Journées Jeunes Chercheurs 2003, La Roche-en-Ardennes - 1/16 - Perrine Royole-Degieux au programme les émulsions nucléaires dans OPERA

Plus en détail

Projets et Laboratoires de la FMNT-Grenoble en Micronanotechnologies

Projets et Laboratoires de la FMNT-Grenoble en Micronanotechnologies Projets et Laboratoires de la FMNT-Grenoble en Micronanotechnologies Matériaux LMGP Technologies UMR 5628 Composants LTM SPINTEC UMR 5129 URA 2512 Micro-systèmes IMEP UMR 5130 Les thématiques des Recherche

Plus en détail

Les résistances de point neutre

Les résistances de point neutre Les résistances de point neutre Lorsque l on souhaite limiter fortement le courant dans le neutre du réseau, on utilise une résistance de point neutre. Les risques de résonance parallèle ou série sont

Plus en détail

THEME 2. LE SPORT CHAP 1. MESURER LA MATIERE: LA MOLE

THEME 2. LE SPORT CHAP 1. MESURER LA MATIERE: LA MOLE THEME 2. LE SPORT CHAP 1. MESURER LA MATIERE: LA MOLE 1. RAPPEL: L ATOME CONSTITUANT DE LA MATIERE Toute la matière de l univers, toute substance, vivante ou inerte, est constituée à partir de particules

Plus en détail

La microscopie à force atomique (AFM)

La microscopie à force atomique (AFM) NANOFONC 5 mars 2010 Nantes La microscopie à force atomique (AFM) http://www.univ-lemans.fr/~bardeau/labolpec/surfpropspec/indexsurface.html N. DELORME (MC), J.F. BARDEAU (CR) Laboratoire de Physique de

Plus en détail

Les appareillages des Spectrométrie optique

Les appareillages des Spectrométrie optique ATELIERS DE BIOPHOTONIQUE Les appareillages des Spectrométrie optique 1. Spectroscopies optiques conventionnelles Spectrophotomètre, Spectrofluorimètre, 2. Analyse Spectrale en Microscopie de fluorescence

Plus en détail

Réalisation et automatisation d un banc de mesure de résistance pour capteurs de gaz, sous le logiciel LabVIEW.

Réalisation et automatisation d un banc de mesure de résistance pour capteurs de gaz, sous le logiciel LabVIEW. Réalisation et automatisation d un banc de mesure de résistance pour capteurs de gaz, sous le logiciel LabVIEW. Minh-Tri Ta (1) (2), Ouafae Bennis (1) (3), Zitouni Messai (2), Toufik Mouet (2), Valérie

Plus en détail

FICHE TECHNIQUE. Domaines d applications. Stockage / Mise en oeuvre. Caractéristiques physiques et techniques STOCKAGE MISE EN OEUVRE

FICHE TECHNIQUE. Domaines d applications. Stockage / Mise en oeuvre. Caractéristiques physiques et techniques STOCKAGE MISE EN OEUVRE FICHE TECHNIQUE PLANS DE TRAVAIL EGGER EUROSPAN Les plans de travail EGGER EUROSPAN se composent d un panneau support EUROSPAN à faible émission de formaldéhyde E1 et d un stratifié décoratif plaqué uniformément

Plus en détail

silicium moteurs de l amélioration de la performance en microélectronique Les nouveaux matériaux, D après la conférence de Didier Lévy

silicium moteurs de l amélioration de la performance en microélectronique Les nouveaux matériaux, D après la conférence de Didier Lévy Les nouveaux matériaux, moteurs de l amélioration de la performance en microélectronique silicium D après la conférence de Didier Lévy Didier Lévy est ingénieur diplômé de l École Nationale Supérieure

Plus en détail

Mesure de la surface spécifique

Mesure de la surface spécifique Mesure de la surface spécifique Introducing the Acorn Area TM Acorn Area est un instrument révolutionnaire conçu pour mesurer la surface spécifique des nanoparticules en suspension dans un liquide. Utilisant

Plus en détail

Nanotechnologies. Beatrice Negulescu. En cas de physique - 6 novembre 2014

Nanotechnologies. Beatrice Negulescu. En cas de physique - 6 novembre 2014 Nanotechnologies Beatrice Negulescu En cas de physique - 6 novembre 2014 Quelques ordres de grandeur Nanotechnologies = Technologies capables à fabriquer, contrôler et analyser des objets de taille nanométrique

Plus en détail

Formation Bâtiment Durable : ENERGIE

Formation Bâtiment Durable : ENERGIE Formation Bâtiment Durable : ENERGIE Bruxelles Environnement Assurer une bonne étanchéité à l air de l enveloppe dans les bâtiments neufs et en rénovation Aline Branders PLATE-FORME MAISON PASSIVE asbl

Plus en détail

Caractérisation de défauts par Magnétoscopie, Ressuage, Courants de Foucault

Caractérisation de défauts par Magnétoscopie, Ressuage, Courants de Foucault Page 1 25 octobre 2012 Journée «Contrôle non destructif et caractérisation de défauts» Caractérisation de défauts par Magnétoscopie, Ressuage, Courants de Foucault Henri Walaszek sqr@cetim.fr Tel 0344673324

Plus en détail

a-si:h/c-si heterojunction solar cells: back side assessment and improvement

a-si:h/c-si heterojunction solar cells: back side assessment and improvement a-si:h/c-si heterojunction solar cells: back side assessment and improvement Sílvia Martín de Nicolás Résumé La diminution du coût des cellules photovoltaïques en silicium cristallin (c-si) passe par une

Plus en détail

Enova 2014. Le technorama de la REE. Jean-Pierre HAUET Rédacteur en Chef REE. Le 11 septembre 20141

Enova 2014. Le technorama de la REE. Jean-Pierre HAUET Rédacteur en Chef REE. Le 11 septembre 20141 Enova 2014 Le technorama de la REE Jean-Pierre HAUET Rédacteur en Chef REE Le 11 septembre 20141 La REE La REE (Revue de l Electricité et de l Electronique) : principale publication de la SEE 5 numéros

Plus en détail

Energie photovoltaïque. Filière Physique des Composants Nanostructurés. PHELMA Septembre 2010

Energie photovoltaïque. Filière Physique des Composants Nanostructurés. PHELMA Septembre 2010 Energie photovoltaïque Filière Physique des Composants Nanostructurés PHELMA Septembre 2010 Anne Kaminski 1, Mathieu Monville 2 1 INP Grenoble - INSA Lyon 2 Solarforce 1 PLAN DU COURS 1- Panorama de l

Plus en détail

PROCESSUS VALMONT CONCERNANT L APPLICATION DE LA TEINTE

PROCESSUS VALMONT CONCERNANT L APPLICATION DE LA TEINTE En ce qui concerne le calcul, les mâts bois sont comparables à tous les autres mâts acier ou aluminium. Conformément à la directive européenne de 1985 ils sont calculés et dimensionnés avec le même référentiel

Plus en détail

Microscopie à Force Atomique

Microscopie à Force Atomique M1 SCIENCES DE LA MATIERE - ENS LYON ANNEE SCOLAIRE 2009-2010 Microscopie à Force Atomique Compte-rendu de Physique Expérimentale Réalisé au Laboratoire de Physique de l ENS Lyon sous la supervision de

Plus en détail

Chapitre n 6 MASSE ET ÉNERGIE DES NOYAUX

Chapitre n 6 MASSE ET ÉNERGIE DES NOYAUX Chapitre n 6 MASSE ET ÉNERGIE DES NOYAUX T ale S Introduction : Une réaction nucléaire est Une réaction nucléaire provoquée est L'unité de masse atomique est une unité permettant de manipuler aisément

Plus en détail

Chimie Analytique II. Microscopie à force atomique

Chimie Analytique II. Microscopie à force atomique Chimie Analytique II Microscopie à force atomique Daniel Abegg Nicolas Calo Emvuli Mazamay Pedro Surriabre Université de Genève, Science II, Laboratoire 144 Groupe 4 29 décembre 2008 Résumé Les résultats

Plus en détail

BALAIS Moteur (charbons)

BALAIS Moteur (charbons) BALAIS Moteur (charbons) 1/ Rôle a) Pour les machines électriques comportant des bagues (alternateur moteur asynchrone) : moteur universel Les balais doivent maintenir un contact constant avec la bague

Plus en détail

Etudier le diagramme température-pression, en particulier le point triple de l azote.

Etudier le diagramme température-pression, en particulier le point triple de l azote. K4. Point triple de l azote I. BUT DE LA MANIPULATION Etudier le diagramme température-pression, en particulier le point triple de l azote. II. BASES THEORIQUES Etats de la matière La matière est constituée

Plus en détail

Le Futur Entre Vos Mains! Pompage de Fluide Sans Roulement ni Joint!

Le Futur Entre Vos Mains! Pompage de Fluide Sans Roulement ni Joint! Le Futur Entre Vos Mains! Pompage de Fluide Sans Roulement ni Joint! Système de Pompage Sans Roulement BPS-1 1.6 bar (23 psi) 21 litres/min (5.5 gallons/min) Système de Pompage Sans Roulement BPS-3 3.5

Plus en détail

European Space Laboratory

European Space Laboratory European Space Laboratory LA MISSION DE COLUMBUS Columbus est la principale contribution de l'agence Spatiale Européenne au projet de l'international Space Station conçu conjointement entre la NASA (USA),

Plus en détail

Sophie Guézo Alexandra Junay

Sophie Guézo Alexandra Junay Sophie Guézo Alexandra Junay sophie.guezo@univ-rennes1.fr alexandra.junay@univ-rennes1.fr Unité Mixte de Recherche (UMR) Université Rennes I et CNRS Physique moléculaire Matière molle Matériaux Nanosciences

Plus en détail

Emmanuel.rousseau@institutoptique.fr

Emmanuel.rousseau@institutoptique.fr E. Rousseau, J-J Greffet Institut d optique Graduate School S. Volz LIMMS, UMI CNRS University of Tokyo, EM2C A. Siria, J. Chevrier Institut Néel-CNRS Grenoble F. Comin ESRF Grenoble Emmanuel.rousseau@institutoptique.fr

Plus en détail

Prévisions des eaux de drainage & programme d essai de lixiviation des métaux: pratiques actuelles

Prévisions des eaux de drainage & programme d essai de lixiviation des métaux: pratiques actuelles Février 2012 Prévisions des eaux de drainage & programme d essai de lixiviation des métaux: pratiques actuelles CONFIDENTIEL Sommaire Mise en contexte sur DMA / LM Objectifs du programme de DMA / LM Composantes

Plus en détail

Comprendre l Univers grâce aux messages de la lumière

Comprendre l Univers grâce aux messages de la lumière Seconde / P4 Comprendre l Univers grâce aux messages de la lumière 1/ EXPLORATION DE L UNIVERS Dans notre environnement quotidien, les dimensions, les distances sont à l échelle humaine : quelques mètres,

Plus en détail

Niveau 2 nde THEME : L UNIVERS. Programme : BO spécial n 4 du 29/04/10 L UNIVERS

Niveau 2 nde THEME : L UNIVERS. Programme : BO spécial n 4 du 29/04/10 L UNIVERS Document du professeur 1/7 Niveau 2 nde THEME : L UNIVERS Physique Chimie SPECTRES D ÉMISSION ET D ABSORPTION Programme : BO spécial n 4 du 29/04/10 L UNIVERS Les étoiles : l analyse de la lumière provenant

Plus en détail

Groupe Nanostructures et Systèmes Quantiques http://www.insp.jussieu.fr/-nanostructures-et-systemes-.html

Groupe Nanostructures et Systèmes Quantiques http://www.insp.jussieu.fr/-nanostructures-et-systemes-.html Axe principal: EDS Axes secondaires : Groupe Nanostructures et Systèmes Quantiques http://www.insp.jussieu.fr/-nanostructures-et-systemes-.html Institut des NanoSciences deparis http://www.insp.jussieu.fr/

Plus en détail

Utilisation historique de nanomatériaux en pneus et possibilités de nouveaux développements

Utilisation historique de nanomatériaux en pneus et possibilités de nouveaux développements Utilisation historique de nanomatériaux en pneus et possibilités de nouveaux développements 7 juin 2012 Francis Peters Bien qu il n y ait pas de nano particules dans les usines qui produisent les mélanges

Plus en détail

1 2 3 4 5 6 7 9 11 11 B A B A 12 13 [Nm] 370 350 330 310 290 270 250 230 210 190 170 150 130 110 90 140 PS 115 PS 85 PS 70 1000 1500 2000 2500 3000 3500 4000 RPM [kw] [PS] 110 150 100 136 90 122 80 109

Plus en détail

FICHE DE DONNEES DE SECURITE

FICHE DE DONNEES DE SECURITE PAGE 1/7 DATE DE MISE A JOUR : 16/11/2011 1/ - IDENTIFICATION DU PRODUIT ET DE LA SOCIETE Identification du produit : Gaines, films, housses, et/ou sacs transparents et colorés en polyéthylène. Famille

Plus en détail

Introduction générale aux nanomatériaux

Introduction générale aux nanomatériaux Introduction générale aux nanomatériaux J.Lecomte, M.Gasparini 16/10/2014 le centre collectif de l industrie technologique belge Notre centre Federation for the technology industry Collective centre of

Plus en détail